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三氟化氮在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅），它在蚀刻时，在蚀刻物表面不留任何残留物，是非常良好的清洗剂，同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。

    三氟化氮，分子式：NF₃。气体分子量：71.01，熔点：–206.8℃（1atm），沸点：–129℃（1atm），临界温度：–39.3℃，临界压力：44.02atm（4.46MPa），液体密度：1554 kg/m³（1atm，沸点时），气体密度：2.95 kg/m（1atm,21℃），水中溶解度（1atm，22℃）：1.43×10-5当量浓度。纯净的NF3气体是一种无色无味的气体，当混入一定量的杂质气体后颜色发黄，同时会有发霉或刺激性气味。NF3气体不可燃，

但能助燃。当温度超过350℃时，三氟化氮气体会缓慢分解，分解时产生强氧化性氟。因此，在高温下它是一种强氧化剂。CAS号：7783-54-2。危险性类别：第2.3类有毒气体，在空气中的最高允许含量为29mg/m